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第452章 光刻！光刻！（第7页）

吕辰三人凑过去。

陈光远继续说：“核心问题有三个。第一，对准。现在是用显微镜+人眼判断，手动调节。第二，步进。现在是用手推动工作台，靠经验定位。第三，监视，当前我们是用显微镜，只能定位位置，不能看到曝光过程。”

他用笔在空白处画了一个流程图。

“一颗芯片，要对准一次。一百颗，就要对准一百次。人的注意力不可能一直保持巅峰，这就是为什么下午良率比上午低，周一良率比周五高。”

他看着吕辰：“你是系统集成专员，整个6305厂的建设你都参与了。你应该明白，咱们下一步要做的，是什么。”

吕辰点点头：“自动化，把最核心的对准和步进，变成自动的。”

“对。”陈光远说，“而且要用咱们自己的技术。”

他在本子上继续画。

“自动对准，用光电检测。在掩模版和晶圆上，做特殊的光学对准标记，比如光栅，比如十字。用光电管接收信号，当信号达到峰值的时候，就是对准了。”

他顿了顿：“这个思路，可以迁移西军电的雷达跟踪技术。他们做雷达信号处理，有现成的峰值检测算法。”

吕辰眼睛亮了：“秦世襄教授那边？”

“对。”陈光远说，“我已经和他通过信，他表示愿意合作。”

他又指向工作台部分。

“自动步进，就用你们正在设计的脉冲电机，加上长光所的光栅尺闭环控制。步进精度做到±1微米。步进的参数，比如X/Y步距、阵列行数列数，可以用二维卡存起来，读卡机自动读取。”

吕辰脑子里飞快地转着。

光电检测自动对准，脉冲电机自动步进，二维卡存储参数……

这不就是一套完整的自动化光刻系统吗？

他看着陈光远：“陈厂长，您这个方案，只改造最核心的对准和步进，不动曝光光源和掩模版架？”

“对。”陈光远说，“这样风险最小，见效最快。解决了人工对准的不一致性，良率就有希望翻倍。而且可以逐步实施，先做自动对准，再做自动步进。紧急情况，还可以切回手动模式。”

他放下笔，看着吕辰：“小吕，咱们这台光刻机，是我设计的。我知道它哪里行，哪里不行。现在你们做这个脉冲电机，正好可以把它最不行的地方，改过来。”